准备工作：抛光前先检查抛光布是否干净平整、抛光盘转向是否正确，并根据个人习惯调整站姿。启动电源后，往抛光盘中心加水润湿抛光布，理想的湿润状态是拿起试样时表面肉眼可见变干。

加抛光剂：若使用抛光膏，则将其均匀涂抹在湿润抛光布的半径1/3至1/2处；若使用抛光液，则每次使用前需摇晃确保混合均匀，并少量多次在抛光盘中心附近加入。

抛光操作：启动抛光盘后，拿起试样先在抛光盘靠中心位置轻轻接触抛光布，然后均匀轻压在抛光盘上。注意磨痕应与抛光盘旋转切线方向垂直，将试样由抛光盘中心至边缘缓慢移动，并可轻微逆抛光盘转动。抛光过程中以少量多次加水来保持抛光布湿润状态。

后期处理：当试样表面无划痕后，可以进行1分钟左右的水抛以使表面更加干净。抛光完成后用水将试样冲洗干净，再用酒精棉球擦拭并用电吹风吹干。

注意事项。

抛光布湿度：抛光布太湿会导致抛光剂不易附着而影响效果；太干则会使抛屑不易被离心力带走且试样容易发热导致组织变形和脏污附着。

抛光压力：抛光时施加的压力不宜过大以免电动机过载而致其损坏或撕裂织物。

抛光时间：整个抛光时间不建议超过5分钟以避免产生抛痕、小黑点、甩尾、表面发灰黑色或浮雕等不良现象。

试样观察：抛光过程中应边抛光边观察试样表面情况以便及时调整抛光参数或停止抛光。

更多信息可咨询：13390834960 

网址：www.pschina99.com