抛光是金相试样磨制的最后一道工序。抛光方式有机械抛光、电解抛光、化学抛光、综合抛光等。

金相抛光有哪些小技巧呢？我们一起来看看吧。

1、在抛光时，试样和操作者双手及抛光用具必须洗净，以免将粗砂粒带入抛光盘。

2、抛光微粉悬浮液的浓度一般为5～15%，装在瓶中，使用时摇动，滴入抛光盘中心。

3、抛光盘湿度是以提起试样，磨面上的水膜在2～3秒自行蒸发干为宜。

4、抛光时试样磨面应平稳轻压于抛光盘中心附近，沿径向缓慢往复移动，并逆抛光盘旋转方向轻微转动，以防磨面产生曳尾。

5、极软极硬金属的磨制特点：

对于铜、铝、铅等金属及其合金，试样制备时易引起金属形变层，使金属扰乱层加厚。常采用手工取样，手工粗磨，使用新砂纸手工细磨，并在砂纸上滴以润滑剂。

对于硬质合金试样，常采用60目软质碳化硅砂轮粗磨;在主贴盘上洒以200目碳化硼或金刚石粉细磨试样，并滴入机油润滑，约2～3分钟即可;最后在特制的塑料抛光盘上抛光2～3分钟，抛光时涂以金刚石研磨膏，也可在金属抛光盘上蒙上尼龙布，再涂金刚石研磨膏进行抛光。

6、铸铁及非金属夹杂物试样的抛光：

铸铁中的石墨及金属中的非金属夹杂物，在抛光时易拖尾、扩大、剥落，因此多用手工细磨，用肥皂作润滑剂;也可用蜡盘代替手工细磨，但是必须选用短纤维抛光布。

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